1200℃滑动双温区PECVD系(xi)统(tong)

产品用途(tu)：

产(chan)品性：

PECVD系统(tong)是(shi)借(jie)助(zhu)射频(pin)使含(han)有(you)薄(bao)膜(mo)组成原子(zi)的(de)气体(ti)电离，在(zai)局(ju)部形(xing)成(cheng)等(deng)离子(zi)体(ti)，而等(deng)离子(zi)体(ti)化(hua)学(xue)活性(xing)很(hen)强，很(hen)容(rong)易(yi)发(fa)生(sheng)反应(ying)，在基片上沉积(ji)出所(suo)期(qi)望(wang)的(de)薄膜。

产(chan)品(pin)组成：

PECVD系统(tong)配(pei)置：

1.1200度开启(qi)式(shi)双(shuang)温(wen)区(qu)真(zhen)空管式炉(lu)

2.等(deng)离(li)子射(she)频电(dian)源(yuan)

3.多路质量流(liu)量(liang)控制(zhi)系(xi)统(tong)

4.真(zhen)空系统（可选(xuan)配中真空或高真空(kong)）  

产品(pin)特(te)点：

生长温(wen)度低；沉积速率快(kuai)；成膜质(zhi)量(liang)好(hao)，适(shi)用(yong)范(fan)围广(guang)，设备简(jian)单(dan)。

天(tian)津(jin)中环电(dian)炉(lu)股(gu)份(fen)有限(xian)公(gong)司(si)立(li)于1993年，2015年公司进(jin)行(xing)股份(fen)制改造，更名为(wei)天(tian)津(jin)中(zhong)环电炉(lu)股(gu)份有(you)限(xian)公司。公(gong)司(si)集(ji)研发、制造(zao)、营(ying)销能力(li)于(yu)一身(shen)，为众多(duo)科研院所(suo)、大(da)学(xue)提(ti)供(gong)实验室电炉(lu)系统(tong)及(ji)服(fu)务并深(shen)受用(yong)户(hu)肯定(ding)；以(yi)北大(da)、清(qing)华(hua)、中科(ke)院(yuan)各(ge)院所(suo)等为(wei)代(dai)表的客户群体(ti)已经超(chao)过(guo)一(yi)千(qian)家(jia)，并(bing)为客(ke)户(hu)完成科研(yan)项目(mu)做(zuo)出(chu)了(le)自己的(de)贡献(xian)。截(jie)至(zhi)到目前，公司已经(jing)成功(gong)研发出(chu)深(shen)受(shou)用户肯定(ding)的21个(ge)系(xi)列260多个品种(zhong)的(de)产(chan)品，同时公司的(de)研发(fa)团队(dui)已(yi)具(ju)备(bei)为(wei)客户量身打(da)造特(te)殊(shu)需(xu)求的(de)实(shi)验(yan)室电(dian)炉系统(tong)的(de)能力(li)。二(er)十(shi)多(duo)年(nian)以来(lai)，公司的品(pin)牌(pai)在客户的口(kou)碑(bei)中得(de)以(yi)不断的成长(zhang)，同时(shi)在(zai)政(zheng)府的扶(fu)植下取得(de)了(le)可(ke)喜(xi)的(de)荣誉(yu)。