CVD管式(shi)炉设备由(you)沉积温(wen)度(du)控件(jian)、沉积反应室(shi)、真空控制(zhi)部件(jian)和气源(yuan)控制(zhi)备件(jian)等部分组成亦可(ke)根(gen)据(ju)用户(hu)需要(yao)设(she)计生(sheng)产(chan)，CVD系(xi)统除了(le)主要(yao)应(ying)用(yong)在碳纳米(mi)材料制(zhi)备行(xing)业外(wai)，现在正(zheng)在使(shi)用在许多行业(ye)，包括纳米(mi)电子学(xue)、半导体(ti)、光电(dian)工程的(de)研发(fa)、涂料(liao)等领(ling)域。

CVD管(guan)式炉(lu)设(she)备由(you)沉(chen)积温(wen)度控(kong)件、沉(chen)积(ji)反(fan)应(ying)室(shi)、真空控制(zhi)部件和气(qi)源控制(zhi)备(bei)件(jian)等(deng)部(bu)分(fen)组(zu)成亦可根据(ju)用(yong)户需要设(she)计生(sheng)产，CVD系统(tong)除了主(zhu)要(yao)应(ying)用在(zai)碳(tan)纳米(mi)材(cai)料制(zhi)备行业外(wai)，现(xian)在正在使(shi)用(yong)在许多行业(ye)，包(bao)括(kuo)纳米电(dian)子(zi)学(xue)、半导(dao)体、光(guang)电(dian)工(gong)程的(de)研(yan)发、涂(tu)料(liao)等(deng)领域(yu)。

产(chan)品(pin)用途：此款CVD系(xi)统(tong)适用于CVD工艺(yi)，如碳(tan)化硅(gui)镀膜(mo)、陶瓷基(ji)片(pian)导(dao)电率(lv)测(ce)试(shi)、ZnO纳(na)米结(jie)构(gou)的可(ke)控生(sheng)长、陶(tao)瓷(ci)电容（MLCC）气(qi)氛(fen)烧(shao)结(jie)真空淬(cui)火(huo)退火(huo)，快(kuai)速(su)降(jiang)温(wen)等(deng)工(gong)艺实(shi)验。

产(chan)品(pin)用(yong)途(tu)：此款(kuan)CVD系统是专门为在金属(shu)箔(bo)上(shang)生长(zhang)薄膜而设(she)计，特别(bie)是应(ying)用(yong)在新一(yi)代能(neng)源关(guan)于柔性金属(shu)箔电极(ji)方(fang)面(mian)的研(yan)究(jiu)，通过(guo)滑(hua)动炉(lu)实现(xian)快(kuai)速(su)加(jia)热(re)和冷(leng)却。

公(gong)司(si)主(zhu)营(ying)快(kuai)速退(tui)火(huo)炉(lu) 马佛炉(lu)管式电(dian)阻(zu)炉/热(re)处理(li)电阻(zu)炉(lu)/高(gao)温(wen)箱式电(dian)阻炉中(zhong)环(huan)电阻炉(lu)/干(gan)燥箱(xiang)/恒温(wen)干燥(zao)箱/鼓(gu)风(feng)干(gan)燥(zao)箱(xiang)/电热(re)鼓风干燥(zao)箱(xiang)/真(zhen)空(kong)干燥箱(xiang)/远(yuan)红(hong)外(wai)干燥(zao)箱/湿(shi)热(re)实验(yan)箱(xiang)/高温电(dian)热(re)鼓风(feng)干(gan)燥箱/大(da)型(xing)电(dian)热(re)鼓风干燥(zao)箱/水箱/电热(re)水(shui)箱/恒(heng)温(wen)水(shui)箱(xiang)/电(dian)热恒(heng)温水箱(xiang)/万用(yong)电炉/封闭万(wan)用电(dian)炉(lu)/封闭(bi)电炉/CVD炉/cvd电炉(lu)/rtp炉/快(kuai)速退火(huo)炉(lu)/立式电炉(lu)/管(guan)炉/石磨希电(dian)炉(lu)/RTP/快(kuai)速激(ji)活(huo)炉/粉(fen)体电炉(lu)/快速(su)热氧化(hua)炉(lu)