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这些有关小型PECVD系(xi)统的(de)特点(dian)，您(nin)知道(dao)几(ji)点？
更新时(shi)间(jian)：2020-06-08 点(dian)击次(ci)数：7339
小(xiao)型PECVD系(xi)统(tong)就(jiu)是为(wei)了使传统(tong)的化学气象(xiang)沉(chen)积(ji)反(fan)应(ying)温度降(jiang)低，普通(tong)CVD设(she)备(bei)的沉(chen)积温度大(da)多在(zai)900℃左(zuo)右，而在普(pu)通(tong)CVD装(zhuang)置(zhi)的前(qian)端(duan)加入(ru)RF射频感应(ying)装(zhuang)置(zhi)将(jiang)反应气体电离，形成等离(li)子(zi)体(ti)，利用(yong)等离子(zi)体(ti)的活(huo)性来促进反应(ying)，可以使(shi)化(hua)学气(qi)相沉(chen)积的(de)温(wen)度(du)降(jiang)到400℃左右，所以(yi)这个系(xi)统(tong)称为增强(qiang)型(xing)化学气相沉(chen)积(ji)系(xi)统。
该型(xing)号PECVD综合了国内大多(duo)数厂家(jia)的(de)PECVD系统(tong)的(de)优(you)点，触(chu)摸屏(ping)集中一键(jian)控制(zhi)，实验证明(ming)此结构(gou)沉(chen)积速度快(kuai)，成(cheng)膜(mo)质量(liang)好(hao)，针孔较(jiao)少(shao)，不易(yi)龟裂(lie)。而且(qie)控(kong)制(zhi)部(bu)分(fen)采用(yong)了成(cheng)仪自(zi)主(zhu)研发的实验电炉(lu)AIO全自动(dong)智(zhi)能控(kong)制(zhi)系(xi)统(tong)，使得操作更加简便，功(gong)能更(geng)加强(qiang)大(da)。
产品用途：
小(xiao)型PECVD系统(tong)是(shi)借(jie)助射频使(shi)含有(you)薄膜组(zu)成(cheng)原子的气(qi)体电离(li)，在(zai)局(ju)部(bu)形成(cheng)等离子(zi)体(ti)，而等离子体(ti)化学活性很强，很(hen)容(rong)易(yi)发(fa)生(sheng)反(fan)应，在基片(pian)上(shang)沉积(ji)出(chu)所(suo)期望的(de)薄膜。
主(zhu)要特点(dian)：
1、智(zhi)能气(qi)路(lu)通断：每(mei)路气体均可定时(shi)通(tong)断(duan)，自由(you)切换(huan)，省时(shi)省力；
2、射(she)频(pin)功率的(de)定时控制(zhi)：预先(xian)设定好(hao)功率的(de)大(da)小和打开与(yu)关闭(bi)的时间(jian)，自动运行；
3、整(zheng)机(ji)结构融(rong)为(wei)一(yi)体(ti)：整(zheng)机(ji)长度(du)只(zhi)有(you)1.5米(mi)，移动方(fang)便(bian)，避(bi)免(mian)分散(san)组(zu)装(zhuang)的困(kun)扰。
4、AIO控制(zhi)系(xi)统：加热控(kong)制、等(deng)离子(zi)射(she)频(pin)控制、气(qi)体(ti)流量控制、真(zhen)空系(xi)统控(kong)制集中于一个7英寸(cun)触摸(mo)屏进行(xing)统一(yi)集中调节(jie)和(he)操控(kong)，协(xie)调控(kong)制：成仪(yi)AIO控制系统(tong)；
5、炉膛移(yi)动速度(du)可(ke)调(diao)：根据(ju)实验(yan)要(yao)求(qiu)，用户(hu)可设定炉(lu)膛左右(you)移动的速(su)度和(he)距(ju)离(li)，在沉(chen)积(ji)结(jie)束后炉(lu)膛可自(zi)动移(yi)开(kai)沉(chen)积区(qu)，使样(yang)品快(kuai)速(su)冷(leng)却；
6、管内真(zhen)空(kong)度自(zi)动平(ping)衡：管(guan)内真(zhen)空度(du)实时(shi)监(jian)测，自(zi)动平衡(heng)。PECVD工艺要求(qiu)石英管(guan)内(nei)真空(kong)度通常(chang)在(zai)0.1～100Pa之间(jian)，该型(xing)号PECVD的(de)AIO控制(zhi)系统会通(tong)过真(zhen)空泵的(de)自动(dong)启(qi)停来维(wei)持(chi)用户设定(ding)的(de)管内(nei)真空度，使成膜(mo)效果(guo)达(da)Z佳(jia)的(de)均(jun)匀性。
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