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原(yuan)来(lai)RTP快速退(tui)火(huo)炉是(shi)由(you)这(zhe)7个部分组(zu)成的！
更(geng)新时(shi)间(jian)：2022-07-14 点击(ji)次数(shu)：4494
RTP快速(su)退(tui)火炉(lu)采用(yong)的(de)微电(dian)脑(nao)控制(zhi)系统(tong)，采用(yong)PID闭(bi)环(huan)控制温(wen)度(du)，可以(yi)达(da)到(dao)*的控温(wen)精(jing)度和温度(du)均(jun)匀(yun)性，并且(qie)可(ke)配(pei)置(zhi)真空(kong)腔(qiang)体(ti)，也可根(gen)据(ju)用户(hu)工艺(yi)需求(qiu)配置多路(lu)气(qi)体(ti)。目(mu)前设(she)备可(ke)用(yong)于(yu)砷(shen)化镓(jia)、硅(gui)以(yi)及其(qi)他半导(dao)体材(cai)料(liao)，离(li)子注入后(hou)的退(tui)火、硅(gui)化(hua)物(wu)的(de)形(xing)成(cheng)、欧姆(mu)接(jie)触(chu)制(zhi)备以(yi)及(ji)快速氧化、快(kuai)速(su)氮(dan)化(hua)等方面(mian)。本设(she)备(bei)具(ju)有快(kuai)速升(sheng)降温、慢速(su)升(sheng)降(jiang)温、和(he)长工(gong)作时间稳(wen)定(ding)等(deng)特(te)点。也(ye)可(ke)用(yong)于(yu)各种(zhong)半导体(ti)材料的(de)CVD工艺的热(re)处(chu)理(li)。
RTP快(kuai)速退(tui)火炉(lu)主(zhu)要(yao)由真空(kong)腔室(shi)、加热(re)室(shi)、进(jin)气(qi)系统、真空系统(tong)、温度控(kong)制系统、气冷(leng)系(xi)统(tong)、水(shui)冷(leng)系统(tong)等(deng)几部(bu)分组(zu)成。
1.真(zhen)空腔(qiang)室(shi)：真(zhen)空腔(qiang)室是快(kuai)速(su)退火(huo)炉的工作(zuo)空(kong)间，晶(jing)圆在(zai)这里进(jin)行快(kuai)速热处(chu)理(li)。
2.加热室(shi)：加(jia)热室以多个(ge)红(hong)外(wai)灯(deng)管(guan)为加(jia)热元件(jian)，以(yi)耐(nai)高(gao)温合金为(wei)框(kuang)架、高纯石(shi)英(ying)为主体。
3.进(jin)气系统(tong)：真(zhen)空(kong)腔室尾(wei)部有(you)进气孔(kong)，控制(zhi)的(de)进(jin)气(qi)量(liang)用来满足(zu)一些特殊工(gong)艺(yi)的气(qi)体需求(qiu)。
4.真(zhen)空(kong)系(xi)统：在(zai)真(zhen)空泵和真(zhen)空腔(qiang)室(shi)之间(jian)装(zhuang)有高(gao)真(zhen)空(kong)电磁(ci)阀(fa)，可(ke)以有(you)效确保腔室(shi)真(zhen)空(kong)度，同时避免气(qi)体(ti)倒(dao)灌污(wu)染腔(qiang)室内的(de)被(bei)处理(li)工件。
5.温(wen)度控(kong)制(zhi)系(xi)统：温(wen)度控制系(xi)统由(you)温度传感(gan)器(qi)、温度控(kong)制(zhi)器、电(dian)力(li)调(diao)整器、可(ke)编(bian)程控(kong)制(zhi)器、PC及(ji)各(ge)种传(chuan)感(gan)器(qi)等组成(cheng)。
6.气冷(leng)系(xi)统(tong)：真空(kong)腔(qiang)室的(de)冷却是通过(guo)进(jin)气系(xi)统(tong)向腔室(shi)内充入(ru)惰(duo)性气(qi)体(ti)，来加速冷却被热处(chu)理(li)的(de)工(gong)件，满(man)足(zu)工艺使(shi)用要(yao)求。
7.水冷(leng)系统(tong)：水(shui)冷(leng)系(xi)统主要(yao)包括真空腔室、加热室、各部(bu)位(wei)密封(feng)圈的(de)冷(leng)却用(yong)水。
