升(sheng)降坩埚炉在温控及(ji)配(pei)电(dian)系统上有什么优(you)势(shi)？

　　升降坩(gan)埚(guo)炉(lu)采(cai)用周(zhou)期(qi)作(zuo)业(ye)，以硅钼棒为(wei)加热(re)元件，炉(lu)膛(tang)额(e)定温度(du)为1600℃，供实(shi)验室(shi)、工矿(kuang)企业、科研单位做(zuo)陶(tao)瓷(ci)及铀(you)料的(de)烧(shao)晶(jing)、熔解、分析等(deng)高(gao)温(wen)加(jia)热用，也可满(man)足(zu)企业(ye)作生产设(she)备之用。

 

　　应(ying)用范围：

　　升降坩(gan)埚炉可广(guang)泛(fan)应(ying)用于(yu)高(gao)等院(yuan)校(xiao)，科(ke)研院所(suo)，工(gong)矿企(qi)业(ye)等实(shi)验(yan)和小(xiao)批量(liang)生(sheng)产(chan)。它(ta)以含钼(mu)电(dian)阻丝(si)或(huo)者(zhe)硅碳棒为(wei)加(jia)热(re)元(yuan)件(jian)，采(cai)用(yong)双层壳体(ti)结(jie)构和智能(neng)化(hua)程序控温系(xi)统(tong)，移(yi)相(xiang)触发(fa)、可(ke)控硅(gui)控制，炉膛采(cai)用氧化(hua)铝(lv)多(duo)晶(jing)体纤维材(cai)料(liao)，双(shuang)层(ceng)炉壳(ke)间(jian)配(pei)有(you)风冷系统，能(neng)快(kuai)速升降温(wen)，具有真(zhen)空(kong)装(zhuang)置(zhi)，该炉(lu)具有(you)温场均(jun)衡、表(biao)面(mian)温度(du)低(di)、升降(jiang)温(wen)度(du)速(su)率(lv)快、节能(neng)等优点；

　　目(mu)前(qian)本产(chan)品(pin)主(zhu)要(yao)用于高(gao)校(xiao)、科(ke)研(yan)院所(suo)、工(gong)矿(kuang)企(qi)业主要(yao)用(yong)于煅烧真空或惰性气体中(zhong)的高(gao)纯(chun)度(du)化(hua)合(he)物(wu)，退火(huo)或(huo)扩散(san)半导体晶(jing)片(pian)，也(ye)可以用(yong)于(yu)烘烧或烧(shao)结陶(tao)瓷材(cai)料等(deng)。

　　升(sheng)降(jiang)坩(gan)埚炉(lu)用(yong)于电子元(yuan)器(qi)件、陶(tao)瓷(ci)、航(hang)空(kong)航(hang)天(tian)等特(te)殊材(cai)料等(deng)领域(yu)的热处(chu)理(li)研发工艺及(ji)有(you)色(se)金(jin)属材料做熔炼或熔化实验等。
 

　　升降(jiang)坩(gan)埚(guo)炉(lu)的温控及配(pei)电系统(tong)：

　　控(kong)制(zhi)面板(ban)为(wei)触摸屏（需(xu)要(yao)时(shi)安装、标(biao)配为(wei)宇电(dian)温(wen)控(kong)708P），可(ke)以储存50条(tiao)烧(shao)结(jie)工(gong)艺(yi)曲线，每(mei)条曲线(xian)可50段(duan)编(bian)程(cheng)，并(bing)可(ke)以(yi)自由(you)命(ming)名，并在主面(mian)板(ban)上显(xian)示出来。升(sheng)降温(wen)曲(qu)线(xian)实时记(ji)录(lu)并存(cun)储在(zai)触摸屏(ping)内，方便(bian)后期(qi)查询(xun)。

　　触(chu)摸屏(ping)的人机(ji)界面(mian)非常(chang)友(you)好(hao)，编(bian)程(cheng)非常直观，简单(dan)易学(xue)。

　　多(duo)重保护功(gong)能(neng)：超(chao)温报警并断(duan)电(dian)；断(duan)偶报(bao)警(jing)并(bing)断(duan)电；断棒(bang)报(bao)警；温度偏差(cha)报(bao)警(jing)；可控(kong)硅(gui)短路报(bao)警(jing)；程(cheng)序结束(shu)报警并(bing)断电。