石(shi)墨(mo)烯系统(tong)
更新时间： 2025-02-27
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产(chan)品(pin)报价：
产品简介(jie)： 公(gong)司主(zhu)营快(kuai)速(su)退(tui)火炉(lu) 马(ma)佛炉(lu)管式电阻(zu)炉(lu)/热处(chu)理电阻(zu)炉/高(gao)温箱式(shi)电(dian)阻炉(lu)中(zhong)环(huan)电阻炉(lu)/干(gan)燥箱/恒(heng)温(wen)干燥(zao)箱/鼓(gu)风干(gan)燥箱/电(dian)热(re)鼓(gu)风(feng)干燥(zao)箱(xiang)/真空干燥箱(xiang)/远(yuan)红(hong)外干燥(zao)箱(xiang)/湿(shi)热(re)实(shi)验(yan)箱(xiang)/高(gao)温电(dian)热(re)鼓(gu)风(feng)干燥箱(xiang)/大型电(dian)热(re)鼓风干燥箱/水箱(xiang)/电(dian)热水(shui)箱(xiang)/恒温(wen)水箱/电(dian)热(re)恒(heng)温水箱(xiang)/万用电炉/封(feng)闭万用(yong)电(dian)炉(lu)/封(feng)闭(bi)电(dian)炉/CVD炉/cvd电(dian)炉/rtp炉/快速(su)退火炉/立式(shi)电炉(lu)/管(guan)炉/石(shi)磨(mo)希(xi)电炉(lu)/RTP/快(kuai)速激(ji)活炉/粉体(ti)电炉/快速热(re)氧化炉(lu)
详细资料：
1 石(shi)墨烯系统兼容、常(chang)压(ya)、微正压(ya)多(duo)种主流(liu)的生长(zhang)模式(shi)
2 石(shi)墨烯系(xi)统可以在(zai)1000Pa-0.1Pa之间(jian)任意(yi)气压下进行(xing)石墨(mo)烯的(de)生长(zhang)
3 使用(yong)计算(suan)机控制(zhi)，可(ke)以设置多种生长参(can)数
4 可以制(zhi)备高(gao)质量(liang)，大(da)面(mian)积石(shi)墨烯等(deng)碳(tan)材料(liao)，尺(chi)寸可(ke)达数厘米，研(yan)究动力(li)学(xue)过(guo)程(cheng)
5 沉积效(xiao)率(lv)高(gao)；薄膜的(de)成分精(jing)确(que)可控(kong)，配(pei)比范(fan)围(wei)大；厚(hou)度范(fan)围广，由几百(bai)埃至(zhi)数(shu)毫米，可以(yi)实(shi)现厚(hou)膜(mo)沉积且(qie)能(neng)大(da)量生(sheng)产
产品性(xing)：
PECVD系统(tong)是借助射(she)频使(shi)含有(you)薄膜(mo)组成原(yuan)子的气体电(dian)离，在局(ju)部(bu)形(xing)成(cheng)等离(li)子(zi)体(ti)，而等(deng)离子(zi)体(ti)化(hua)学(xue)活性(xing)很强，很容易发生(sheng)反(fan)应，在(zai)基片上沉积出所(suo)期(qi)望的薄(bao)膜。
产(chan)品(pin)组成：
PECVD系(xi)统配置：
1.1200度(du)开(kai)启式(shi)双温区(qu)真(zhen)空管式(shi)炉(lu)
2.等离子(zi)射频电(dian)源
3.多路(lu)质(zhi)量流(liu)量控(kong)制(zhi)系(xi)统
4.真(zhen)空系统（可(ke)选(xuan)配(pei)中(zhong)真空或(huo)高(gao)真(zhen)空(kong)）
产品特(te)点(dian)：
生长(zhang)温(wen)度低；沉(chen)积速率快(kuai)；成(cheng)膜(mo)质量好，适用范围广(guang)，设(she)备(bei)简(jian)单(dan)。
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