1200℃滑(hua)动式(shi)单(dan)温(wen)区(qu)/双(shuang)温(wen)区/三(san)温区(qu)CVD系统

1200℃滑动(dong)式单(dan)温(wen)区/双温区/三温(wen)区CVD系统产(chan)品用(yong)途(tu)：

此款(kuan)CVD系统适用于(yu)CVD工(gong)艺(yi)，如(ru)碳(tan)化(hua)硅(gui)镀膜(mo)、陶瓷(ci)基(ji)片(pian)导电率测(ce)试、ZnO纳米(mi)结(jie)构(gou)的可控(kong)

生长(zhang)、陶瓷(ci)电(dian)容（MLCC）气(qi)氛烧(shao)结真(zhen)空(kong)淬火退(tui)火，快速降(jiang)温等(deng)工(gong)艺(yi)实验。

产(chan)品(pin)组(zu)成：

CVD系(xi)统配(pei)置(zhi)：

1、1200度(du)开启(qi)式(shi)真(zhen)空(kong)管式(shi)炉（可选配多(duo)温区）。

2、滑动系(xi)统(tong)分为(wei)手动(dong)、电(dian)动滑动(dong)，并(bing)配有(you)风冷系统(tong)。

3、多路(lu)质量流(liu)量控制系统(tong)

4、真(zhen)空系(xi)统(tong)（可(ke)选(xuan)配(pei)中(zhong)真(zhen)空或高真(zhen)空(kong)）

1200℃滑(hua)动(dong)式(shi)单温区/双温(wen)区(qu)/三(san)温区CVD系统产品特点(dian)：

1、控(kong)制(zhi)电(dian)路(lu)选(xuan)用(yong)模(mo)糊(hu)PID程(cheng)控(kong)技术(shu)，该(gai)技术(shu)控温(wen)精度高，热(re)惯性(xing)小，温度不(bu)过(guo)冲(chong)，性能(neng)可(ke)靠，操(cao)作简单(dan)。

2、中真空系(xi)统具有(you)真(zhen)空(kong)度(du)上下限(xian)自(zi)动控(kong)制(zhi)功能(neng)，高真空系(xi)统(tong)采(cai)用高压强(qiang)，耐(nai)冲击(ji)分子(zi)泵，防(fang)止(zhi)意外漏气(qi)造(zao)成分(fen)子(zi)泵(beng)损(sun)坏，延(yan)长系(xi)统(tong)使(shi)用寿(shou)命(ming)。

3、(电(dian)动)滑动(dong)系(xi)统(tong)采用(yong)温(wen)度控制(zhi)器自(zi)动控制(zhi)炉体移(yi)动(dong)，等程(cheng)序(xu)完(wan)成(cheng)，炉体(ti)按(an)设定(ding)的速度(du)滑(hua)动，因有滑动(dong)限位功能(neng)炉(lu)体不(bu)会(hui)发(fa)生(sheng)碰撞，待样(yang)品(pin)露出炉(lu)体后(hou)，通过(guo)风冷系统(tong)快速降温。

产(chan)品(pin)图(tu)片(pian)：