CVD管(guan)式(shi)炉(lu)设(she)备由(you)沉(chen)积(ji)温度(du)控件、沉(chen)积反(fan)应室、真空(kong)控制部(bu)件和(he)气(qi)源控制(zhi)备件等部分(fen)组成(cheng)亦可(ke)根据用户(hu)需要设(she)计生(sheng)产(chan)，CVD系统(tong)除了主要应用(yong)在(zai)碳(tan)纳(na)米材(cai)料(liao)制备(bei)行(xing)业外，现在(zai)正在(zai)使(shi)用在许多行业，包括纳(na)米电子学、半导(dao)体(ti)、光(guang)电工(gong)程的(de)研(yan)发、涂(tu)料等(deng)领域(yu)。

CVD管式炉(lu)设(she)备由(you)沉(chen)积(ji)温(wen)度控件、沉(chen)积反应室(shi)、真空(kong)控(kong)制部件和气源控制(zhi)备(bei)件等部(bu)分(fen)组成亦可(ke)根(gen)据用(yong)户(hu)需(xu)要设(she)计生(sheng)产，CVD系(xi)统除(chu)了(le)主(zhu)要(yao)应(ying)用(yong)在碳纳米(mi)材料制备行业(ye)外，现在(zai)正(zheng)在(zai)使用在许(xu)多(duo)行(xing)业，包(bao)括纳米电子(zi)学(xue)、半(ban)导(dao)体、光(guang)电(dian)工(gong)程(cheng)的(de)研发、涂(tu)料等(deng)领(ling)域(yu)。

产品(pin)用(yong)途：此(ci)款CVD系统(tong)适(shi)用于CVD工(gong)艺(yi)，如碳(tan)化硅镀(du)膜、陶瓷(ci)基(ji)片(pian)导电率测(ce)试、ZnO纳米结构(gou)的可控(kong)生(sheng)长、陶瓷(ci)电(dian)容(rong)（MLCC）气氛(fen)烧结真空(kong)淬火(huo)退(tui)火(huo)，快(kuai)速降温(wen)等工艺实(shi)验(yan)。

产品(pin)用途(tu)：此(ci)款(kuan)CVD系统(tong)是专门为在金(jin)属箔上(shang)生长薄膜(mo)而(er)设(she)计，特(te)别是(shi)应(ying)用在新一(yi)代能(neng)源(yuan)关(guan)于(yu)柔(rou)性(xing)金(jin)属箔(bo)电(dian)极(ji)方(fang)面的(de)研究，通(tong)过(guo)滑动(dong)炉实(shi)现(xian)快速加(jia)热和冷(leng)却(que)。

公(gong)司主营(ying)快(kuai)速退火(huo)炉 马佛(fu)炉(lu)管式电(dian)阻炉/热(re)处(chu)理电阻(zu)炉/高(gao)温(wen)箱式电(dian)阻(zu)炉中环(huan)电阻(zu)炉(lu)/干燥箱/恒(heng)温干(gan)燥(zao)箱/鼓风(feng)干(gan)燥箱/电热鼓(gu)风(feng)干燥箱/真(zhen)空干燥箱/远(yuan)红外干(gan)燥箱(xiang)/湿(shi)热实验箱(xiang)/高温电(dian)热鼓(gu)风干燥(zao)箱/大(da)型(xing)电热鼓(gu)风(feng)干(gan)燥箱(xiang)/水箱(xiang)/电(dian)热(re)水(shui)箱(xiang)/恒(heng)温水箱/电热(re)恒温水箱/万(wan)用电炉/封(feng)闭万(wan)用电(dian)炉(lu)/封(feng)闭(bi)电(dian)炉/CVD炉(lu)/cvd电(dian)炉(lu)/rtp炉/快速(su)退(tui)火(huo)炉/立式电炉(lu)/管炉(lu)/石(shi)磨(mo)希电(dian)炉(lu)/RTP/快速(su)激活(huo)炉(lu)/粉(fen)体(ti)电炉(lu)/快速(su)热氧(yang)化炉(lu)